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英特爾CFO:芯片工藝落后臺(tái)積電和三星 5nm推出后將重回領(lǐng)導(dǎo)地位

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日期:2020-03-06 13:45:08    來源:TechWeb.com.cn    

3月5日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,在芯片工藝方面,芯片巨頭英特爾已落后于臺(tái)積電和三星,英特爾的高管目前也已公開承認(rèn)了這一點(diǎn)。

承認(rèn)芯片工藝落后競爭對(duì)手的,是英特爾的首席財(cái)務(wù)官喬治·戴維斯(George Davis),他在摩根士丹利(Morgan Stanley)的一次會(huì)議上,承認(rèn)他們現(xiàn)階段在芯片工藝方面落后于競爭對(duì)手。

在會(huì)上,喬治·戴維斯表示,英特爾目前仍認(rèn)為在芯片工藝方面跟上和超越競爭對(duì)手,還有很長的路要走。

喬治·戴維斯在會(huì)上進(jìn)一步表示,在2021年推出7nm工藝之前,他們?cè)谛酒に嚪矫鏌o法與臺(tái)積電和三星平起平坐,不過在5nm工藝推出之后,英特爾將重新奪回領(lǐng)導(dǎo)地位。

英特爾的7nm工藝是計(jì)劃在2021年推出,其CEO鮑勃·斯旺(Robert Swan)此前曾表示,英特爾的7nm CPU,將在2021年四季度開始出貨,但對(duì)于5nm,英特爾目前還未給出明確的時(shí)間表。

英特爾在芯片工藝方面落后競爭對(duì)手,主要是在10nm和7nm方面,臺(tái)積電的7nm工藝在2018年率先量產(chǎn),2019年為臺(tái)積電帶來了93億美元的營收,占到了該年臺(tái)積電全部營收的27%。而在7nm工藝量產(chǎn)兩年之后,臺(tái)積電今年是將開始大規(guī)模量產(chǎn)5nm工藝,這一工藝在去年已開始試產(chǎn),預(yù)計(jì)今年可貢獻(xiàn)臺(tái)積電一成的營收。

雖然在芯片工藝方面落后于競爭對(duì)手,但在鮑勃·斯旺的領(lǐng)導(dǎo)下,英特爾也在奮力追趕,他們?cè)谌ツ暌雅读宋磥硎甑募夹g(shù)路線圖。

路線圖顯示,英特爾的7nm工藝將在2021年開始采用,7nm+和7nm++則會(huì)在隨后的兩年分別推出。7nm之后是更先進(jìn)的5nm、3nm、2nm和1.4nm,其中5nm、3nm和2nm處在路線發(fā)現(xiàn)階段,分別計(jì)劃在2023年、2025年和2027年采用,2029年擬開始采用1.4nm工藝。(辣椒客)

關(guān)鍵詞: 英特爾

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