眾所周知，在半導(dǎo)體領(lǐng)域，荷蘭的ASML壟斷著光刻機；而美國主要壟斷EDA，IP，另外在半導(dǎo)體設(shè)備上也很厲害；日本則在半導(dǎo)體材料上有著霸權(quán)，在半導(dǎo)體設(shè)備上也表現(xiàn)突出。
所以美國要聯(lián)手荷蘭、日本，一起對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進行圍堵，想要延續(xù)中國半導(dǎo)體發(fā)展的腳步。
(相關(guān)資料圖)
那么問題來了，日本的半導(dǎo)體材料究竟有多厲害？可能很多人對此，沒有一個關(guān)鍵的認(rèn)識，所以我們今天來仔細(xì)列舉一下日本半導(dǎo)體材料的厲害之處。
文字描述，可能大家看起來太累，直接上圖，簡單直接易看懂。
我們知道，從砂子變成芯片的過程中，最重要的是前道工序，也就是把硅晶圓，變成加工好的可以封裝的裸芯片。
而這個過程，會經(jīng)歷薄膜沉淀、光刻、蝕刻、清洗等多項工藝，每一步都需要特定的加工設(shè)備與原材料。
在這個前道工序，比較關(guān)鍵的材料有19種，也就是上圖所列的這些，而其中14種都由日本企業(yè)主導(dǎo)，日企占全球份額超過50%。
其中大家最熟悉的，用于7nm以下芯片制造的EUV光刻膠，日本的份額為100%，而相對高端一點，用于130nm-7nm工藝的ArF光刻膠，日本占了87%……
很明顯，日本在半導(dǎo)體材料方面的霸權(quán)，真的不容小瞧，可不是吹出來的，是實打?qū)嵈嬖诘摹?/p>
為什么日本的半導(dǎo)體材料這么厲害？一方面是80年代，日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)非常發(fā)達，但后來美國出手，廢了日本半導(dǎo)體的武功，于是日本往上游的材料方面發(fā)展，由于原本的半導(dǎo)體基礎(chǔ)還在，所以發(fā)展起來也快。
另外就是半導(dǎo)體材料的制造工藝多且繁雜，需要基礎(chǔ)研究比較扎實，更有一些經(jīng)驗方面的積累加成，需要企業(yè)有長期相關(guān)的積累，所以向來以“匠人精神”自居、在基礎(chǔ)研究上本來就比較扎實，且發(fā)力較早的日本比較有先天優(yōu)勢。
比如硅的提純，氟化氫的提純方面，需要小數(shù)點后的9越做越多越好，主打一個精益求精。日本企業(yè)能做到小數(shù)點后10個9，其它國家和地區(qū)，只能做到8個9，甚至9個點，別小看了這么一位小數(shù)點，但實際效果卻千差萬別的。
還有一項很重要的是，一般的半導(dǎo)體企業(yè)，不會輕易更換解決方案以及相關(guān)供應(yīng)商，一旦合作就是長期綁定，所以日本半導(dǎo)體強大后，與其它廠商是高度綁定的，另外的廠商要搶這個市場，還是非常難的。
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